高精度痕量氣體分析儀（TGA-321）是一款專為半導體行業空氣分子污染分析（AMC）測量氨氣(NH3)而設計的專業儀器，采用光腔衰蕩光譜技術（CRDS），具有很高的靈敏度，其檢測下限可達ppt級別。不需要現場校準，非常適合連續測量。
該分析儀內部管路都進行了特殊涂層，可以有效的減小氨氣(NH3)分子在管道壁上的吸附，加速測量的響應時間并消除測量偏差。同時分析儀采用小體積腔設計，能夠進一步提升測量速度。
腔衰蕩光譜（CRDS）與離子遷移譜（IMS）和離子色譜傳統技術相比，具有探測下限低、響應速度快、無需耗材等顯著優勢，該分析儀具有更優的長期穩定性和低維護性，是半導體行業AMC連續監測的理想選擇。
系統特點
ppt級別的靈敏度、精度以及準確度；
免標定，低漂移；
響應速度快；
連續監測；
無耗材成本。
性能指標
NH3
精度（1σ,10 秒 /100 秒）
＜ 300ppt/100ppt
檢測下限（3σ,100 秒）
300ppt
線性
±1%
零點準確度
±100ppt
響應時間 (T90/10+T10/90)
＜ 180 秒
量程范圍
0 ～ 10ppm
其他性能參數
測量技術
光腔衰蕩光譜（CRDS）技術
光腔溫度控制
±0.005℃
光腔壓強控制
±0.0002atm
采樣流量
＜ 2slm
進氣接口
? 英寸 Swagelok®
環境溫度
15 ～ 35℃（工作）， -10 ～ 50℃（儲存）
環境濕度
＜ 99%RH（無冷凝）
通信接口
RS232 、USB、以太網
交互界面
7 寸液晶觸摸屏
電源
85 ～ 264VAC ，50/60Hz
總功耗
70W（分析儀） +300W（外置泵）
安裝形式
工作臺式或 19 英寸機架式
儀器尺寸
（178×432×602）mm（H×W×D）
重量
≤28.05kg（包括外置泵）
配件（隨附）
外置真空泵，客戶端分析軟件
京公網安備 11010802025807號
